本文总结了高中要求的所有常见无机物的工业制备方法，包括工业制HNO3、H2SO4、HCl、氨气、玻璃等，方便学生进行系统复习。
1.工业制HNO34NH3+5O2=（催化剂、△）4NO+6H2O（反应条件：800度高温，催化剂铂铑合金作用下）2NO+O2=2NO23NO2+O2=2HNO3+NO2.工业制H2SO4沸腾炉：4FeS2+11O2=（高温）2Fe2O3+8SO2接触室：2SO2+O2⇌（加热、催化剂）2SO3吸收塔：SO3+H2O=（高温）H2SO43. 工业制HClH2+Cl2=（点燃）2HCl然后用水吸收，在合成塔内完成4.工业制烧碱2NaCl+2H2O=(电解)H2↑+Cl2↑+2NaOH5.工业制纯碱（侯氏制碱法）NH3+H2O+CO2=NH4HCO3NH4HCO3+NaCl=NaHCO3+NH4Cl（NaHCO3结晶析出）总：NaCl＋NH3＋CO2＋H2O＝NaHCO3＋NH4Cl2NaHCO3=（△）Na2CO3+H2O+CO26.工业制氨气合成塔：3H2+N2⇌（高温高压催化剂）2NH3注：催化剂为铁触媒7. 工业制玻璃（设备名称：玻璃窑）Na2CO3+SiO2=（高温）Na2SiO3+CO2↑CaCO3+SiO2=（高温）CaSiO3+CO2↑8. 工业制硅利用反应 SiO2+2C=（高温） Si+2CO↑能得到不纯的粗硅。
粗硅需进行精制，才能得到高纯度硅。
首先，使Si跟Cl2起反应： Si+2Cl2=SiCl4（400 ℃～500 ℃）生成的SiCl4液体通过精馏，除去其中的硼、砷等杂质。
然后，用H2还原SiCl4： SiCl4＋2H2=（高温） Si+4HCl这样就可得到纯度较高的多晶硅。
9. 工业制漂白粉2Cl2+2Ca(OH)2=CaCl2+Ca(ClO)2+2H2O10. 工业腐蚀印刷电路板2FeCl3+Cu=2FeCl2+CuCl22Fe3++Cu=2Fe2++Cu2+11. 工业制金属Na2NaCl=（电解）2Na+Cl2↑12.工业制金属MgMgCl2=（电解）Mg+Cl2↑13.工业制金属Al2Al2O3=（电解）4Al+3O2↑注：催化剂为熔融的冰晶石，化学式为NaAlF614.工业制生石灰、二氧化碳高温煅烧石灰石：CaCO3=（高温） CaO+CO215.高炉炼铁Fe2O3+3CO=(高温)2Fe+3CO216.工业制取水煤气C+H2O=（高温）CO+H217. 粗铜的精炼电解：阳极用粗铜阳极：Cu－2e－＝Cu2＋阴极：Cu2＋＋2e－＝Cu【声明：图片来自网络，编辑by中学化学园，如需转载，请注明完整出处】