龙图光罩力图突破65nm制程节点 从国产替代走向高端布局国家领导人2022年在武汉考察时就强调了：“把科技的命脉牢牢掌握在自己手中，不断提升我国发展独立性、自主性和安全性。
”当下正处在百年未有之大变局，地缘政治给各行各业都带来一定影响，同时人工智能技术又在引领着技术升级和经济复苏，可谓是机遇与挑战并存的时代。
而半导体在目前可以说是现代工业的基石产业，面对美国的围追堵截，实现半导体自主化是我国半导体企业的必须面对的命题。
而深圳市龙图光罩股份有限公司面对这个命题就交出了不错的答卷，不仅给国内半导体企业提供了掩模版的国产替代方案，现在还向着先进制程发力冲刺实现高端布局。
龙图光罩制程节点已覆盖功率半导体主流制程龙图光罩主营业务为半导体掩模版的研发、生产和销售，是国内稀缺的独立第三方半导体掩模版厂商，紧跟国内特色工艺半导体发展路线，不断进行技术攻关和产品迭代，半导体掩模版工艺节点从 1μm 逐步提升至 130nm，产品广泛应用于功率半导体、MEMS 传感器、IC 封装、模拟 IC 等特色工艺半导体领域，终端应用涵盖新能源、光伏发电、汽车电子、工业控制、无线通信、物联网、消费电子等场景。
由于半导体掩模版对于技术研发和生产工艺控制水平的要求较高，国内起步较晚，长期以来国内半导体掩模版市场份额主要由国际巨头所占据，如美国Photronics、日本 Toppan、日本 DNP 等。
龙图光罩作为国内领先的半导体掩模版企业，以当前特色工艺半导体市场为切入点，紧扣国内半导体厂商生产需求，不断提升掩模版工艺技术水平和客制化服务能力，逐步成为国内多个大型特色工艺晶圆厂商的合格供应商，在部分工艺节点上占据了境外半导体掩模版厂商的市场份额。
在功率半导体掩模版领域，发行人工艺节点已覆盖全球功率半导体主流制程的需求，给国内半导体厂商提供了国产的掩模版替代方案。
冲刺突破65nm制程节点 布局高端市场据悉龙图光罩本次IPO募集资金将用于其实现130nm-65nm制程节点项目。
而一旦实现这一技术突破，那么掩模版的应用场景可以扩宽到MCU芯片、DSP芯片、CIS芯片、存储器芯片等领域，给龙图光罩带来非常大的新的业务增长点。
龙图光罩在其招股书中也表示：未来三至五年，将利用现有的优势和产品竞争力，扩大国内特色工艺半导体市场掩模版的市场占有率，同时大力推进高端半导体芯片掩模版项目建设，实现高端半导体掩模版技术突破，不断提升制程节点。
围绕高端半导体芯片掩模版领域，持续加大研发投入和资金投入，逐步实现 90nm、65nm 以及更高节点的高端制程半导体掩模版的量产与国产化配套，形成“深耕特色工艺，突破高端制程”的发展战略和思路。
从整体来看，半导体产业虽然目前国产率处在低位，尤其是高端半导体产业大部分依赖进口。
半导体是一个完整且细分的产业链，如果无法做到全产业链全自主化，那么总会有领域被卡着脖子从而影响整个企业。
所以也希望未来有更多的公司为国内半导体产业提供中国方案布局高端。