前言：在第一章電鍍概論中有提到，若要電鍍好的品質必須要有適當的電鍍條件， 而以連續電鍍(高速電鍍)的首要電鍍條件，便是電流密度。
所謂的電流密度，就是電極 單位面積所通過的安培數，一般以 A/dm2 表示或簡寫為ASD。
電流密度在電鍍操作上是很 重要的變數，諸如鍍層的組織、膜厚的分佈、電流效率等，皆有很大的關係。
電流密度 有分為陽極電流密度和陰極電流密度，一般所稱的的電流密度，指的就是陰極電流密度。
一、電流密度的計算：由於端子的形狀是不規則的，所以我們一般只能計算，單一鍍槽 中的【平均電流密度】，而無法算及局部電流密度 平均電流密度（ADS）= 電鍍槽通電的安培數（Amp）/ 電鍍面積（dm2 ） 在連續端子電鍍業，計算陰極電流密度時，必須先知道電鍍槽長及單支端子電鍍面 積，然後再算出鍍槽中之總電鍍面積。
舉例：有一連續端子電鍍機，鎳槽槽長 1.5 米，欲鍍端子之間距為1.0mm，每支端 子電鍍面積為 20mm2 ，今開電流 60Amp ，請問平均電流密度為多少？ ⑴電鍍槽中端子數量 = 1.5*1000/1.0 = 1500支 ⑵電鍍槽中電鍍面積 = 1500*20 = 30000mm2 = 3.0dm2 ⑶平均電流密度 = 60/3.0 = 20 ADS 二、電流密度與電鍍面積的關係： 相同 ( 或同等份 ) 的電流下，電鍍面積越小者，其所承受的電流密度越大。
而電鍍 面積越大者，其所承受的電流密度就越小。
例如下圖若開100安培電流，總面積為 15 dm2 ，則平均電流密度為6.7ASD。
但若把它分為二區來計算，A區的面積為5 dm 2 、 B區為10 dm2 ，而二區所承受的電流各為50A，那麼A區的局部電流密度為10ASD，B區 的局部電流密度為5ASD。
由此例可見A區的電流密度為 B 區的二倍，因此就會有膜厚 分布不均的現象。
三、電流密度與陰陽極距離的關係： 由於端子外表結構不一定規則狀，在共同的電流下，端子離陽極距離較近的部位稱 為局部高電流區（a），離陽極距離較遠的部位稱為局部低電流區（b）。
因此就會有 膜厚分布不均的現象。
四、電流密度與哈式槽試驗的關係： 每種電鍍藥水都有一定的電流密度操作範圍，例如錫合金高速電鍍藥水，它的操作 電流密度範圍大約在2~30ASD，電流密度過高鍍層會呈現粗白，甚至燒焦。
電流密度 過低鍍層會呈現雲狀白霧。
然而評價(或是觀看)藥水的操作電流密度的範圍，大致 上可以從哈式槽試驗結果看出，因為哈式槽的陽極面與陰極面之間並非平行面(如下 圖)，離陽極面較近之陰極端其電流密度比離陽極面遠者大，因此可以比較從高電流 密度區到低電流密度區之電鍍狀態。
因此哈式試驗是所有電鍍廠及藥水商們的必備 分析工具，它的優點有：A.用化學分析求不出的成分B.用化學分析需費時的成分C. 非常微量就會影響電鍍的成分D.鍍浴之現狀及將來會發生不良的現象能預先知道。
陰極(哈式片）