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中微公司申请气体释放器及半导体处理设备专利,防止反应气体回流将气体释放器和与反应腔连通的前端部件腐蚀,延长了半导体器件的使用寿命,降低了器件维护成本

发布:2024-09-03 浏览:41

核心提示:金融界2024年6月3日消息,天眼查知识产权信息显示,中微半导体设备(上海)股份有限公司申请一项名为“一种用于半导体处理设备的气体释放器及半导体处理设备“,公开号CN202211524835.8,申请日期为2022年11月。专利摘要显示,一种用于半导体处理设备的气体释放器及半导体处理设备,气体释放器设置在半导体处理设备的反应腔上的进气口中,气体释放器中设置常规的反应气体管路,通过在气体释放器中增设吹扫气体管路和出气孔,并根据气体释放器的具体设置位置来合理设置吹扫气体出气孔的位置,从而确保了在气体释放器向反

金融界2024年6月3日消息,天眼查知识产权信息显示,中微半导体设备(上海)股份有限公司申请一项名为“一种用于半导体处理设备的气体释放器及半导体处理设备“,公开号CN202211524835.8,申请日期为2022年11月。
专利摘要显示,一种用于半导体处理设备的气体释放器及半导体处理设备,气体释放器设置在半导体处理设备的反应腔上的进气口中,气体释放器中设置常规的反应气体管路,通过在气体释放器中增设吹扫气体管路和出气孔,并根据气体释放器的具体设置位置来合理设置吹扫气体出气孔的位置,从而确保了在气体释放器向反应腔中通入反应气体的整个过程中,都同时将吹扫气体通过所述吹扫气体管路和出气孔通入反应腔及与反应腔连通的前端空间,从而防止反应气体回流将气体释放器和与反应腔连通的前端部件腐蚀,延长了半导体器件的使用寿命,降低了器件维护成本。
本文源自金融界

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