金融界 2024 年 9 月 17 日消息，天眼查知识产权信息显示，武汉拓材科技有限公司取得一项名为“一种区熔法制备高纯铟的装置“，授权公告号 CN116287792B，申请日期为 2023 年 3 月。
专利摘要显示，本发明提出了一种区熔法制备高纯铟的装置，包括中空壳体以及处于中空壳体侧壁的进气口和出气口，所述中空壳体内还设有石墨料舟，石墨料舟通过加热组件进行加热，所述石墨料舟为两端封闭、顶端开口的 U 型槽状结构，所述石墨料舟的 U 型槽内壁均布若干气孔，所述气孔通过石墨料舟内的气道连通至进气管，所述进气管连接至进气口。
本发明将蒸馏法制备的 3~4N 铟作为原料，可以很好的除去其中的杂质相 Fe、Co、Ni、Cu 等，得到纯度为 6~8N 的铟。
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