奥普光电是中国光刻机领域的一个重要参与者，其控股股东为长春光学精密机械与物理研究所，其持有奥普光电42.40%的股份。
公司在光刻机技术应用方面取得了一系列成就，特别是在深度光刻技术上具有显著特色。
奥普光电的光刻机技术在以下几个方面取得了突破和创新：1、公司高均匀照明和亚微米高分辨力光刻技术：通过采用积木错位蝇眼透镜平滑衍射效应、真空曝光和气浮曝光等技术，实现了高均匀照明和亚微米级别的高分辨力光刻。
2、高准确度双面对准技术：使用底面对准技术，单曝光头能够实现高准确度的双面对准（2.5µm）曝光。
3、大面积高能均匀曝光技术：结合积木错位蝇眼透镜和离轴非球面反射照明技术，实现了大面积（430mm×430mm）、高能（15mW/cm²）、均匀（8%）、冷光（<30°C）、平行（<1°）曝光。
4、厚胶高准确度对准与套刻技术：采用双焦点对准技术，能够实现厚胶（600m, 侧壁陡度85°）的高准确度对准（0.6µm）与套刻。
公司的URE-2000系列紫外深度光刻机因其技术先进、功能齐全、性能可靠、操作方便，在深度光刻中具有特色，已经推广应用120余台（套），并且远销国外6台（套），开创了中国光刻机设备出口的先例。
此外，公司控股股东旗下的长春光机所在极紫外（EUV）光刻关键技术研究方面也取得了重要进展。
2017年，长春光机所的“极紫外光刻关键技术研究”项目通过了国家科技重大专项的验收，标志着中国在极紫外光刻技术研发上向前推进了重要一步。
极紫外光刻技术是下一代光刻技术，对于推动集成电路制造技术的发展具有重要意义。
公司的技术应用和发展，为其在光刻机领域的持续创新和发展提供了坚实的基础。
随着技术的不断进步和市场的扩大，我国国产光刻机技术优势在全球光刻机市场中占据一席之地。
风险提示：未知