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安集科技申请一种化学机械抛光液及其用途专利,能够调节不同二氧化硅材料的去除速率

发布:2024-07-24 浏览:47

核心提示:金融界2024年6月28日消息,天眼查知识产权信息显示,安集微电子科技(上海)股份有限公司申请一项名为“一种化学机械抛光液及其用途“,公开号CN202211698186.3,申请日期为2022年12月。专利摘要显示,本发明提供了一种化学机械抛光液及其使用方法。所述化学机械抛光液包括非离子型表面活性剂和研磨颗粒。本发明中的化学机械抛光液,通过添加非离子表面活性剂,能够调节不同二氧化硅材料的去除速率,从而可以调节不同材料间的选择比,满足工艺需求。本文源自金融界

金融界2024年6月28日消息,天眼查知识产权信息显示,安集微电子科技(上海)股份有限公司申请一项名为“一种化学机械抛光液及其用途“,公开号CN202211698186.3,申请日期为2022年12月。
专利摘要显示,本发明提供了一种化学机械抛光液及其使用方法。
所述化学机械抛光液包括非离子型表面活性剂和研磨颗粒。
本发明中的化学机械抛光液,通过添加非离子表面活性剂,能够调节不同二氧化硅材料的去除速率,从而可以调节不同材料间的选择比,满足工艺需求。
本文源自金融界

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