真空镀真空镀是电镀的一种，是采用在真空条件下，通过蒸馏或溅射等方式在塑件表面沉积各种金属和非金属薄膜，通过这样的方式可以得到非常薄的表面镀层，同时具有速度快附着力好的突出优点，但是价格也较高，可以进行操作的金属类型较少，一般用来作较高档产品的功能性镀层·真空镀根据方法不同可分为蒸发镀和溅射镀，离子镀。
蒸发镀，其特点是在真空条件下，材料蒸发并在玻璃表面上凝结成膜，再经高温热处理后，在玻璃表面形成附着力很强的膜层。
有70 多种元素、50 多种无机化合物材料和多种合金材料可供选择。
溅射镀 sputtering depositsnn 用荷能粒子(通常为气体止离子)轰击靶材，使靶材表面部分原子逸出的现象r.若把零件放在靶材附近酌适当位置上，则从靶材飞出的原子便会沉积到零件表面而形成镀层。
它特另}l适用于高熔点金属、合金、半导体和各类化合物的镀覆二主要用于制备电子元件上所需的各种镀层。
也可用来镀覆氮化钦仿金镀层和在切削刀具上镀覆氮化钦、碳化钦等硬质镀层，以提高其使用寿命和切削功能。
离子镀在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分电离，并在气体离子或被蒸发物质离子的轰击下，将蒸发物质或其反应物沉积在基片上的方法。
其中包括磁控溅射离子镀、反应离子镀、空心阴极放电离子镀（空心阴极蒸镀法）、多弧离子镀（阴极电弧离子镀）等。
真空镀的基本流程如下方框图：真空镀由于是气象沉积，一般能喷涂的塑胶材料都能实现真空镀，如ABS,PC,PMMA，PET,PS等。
真空镀表面颜色不受限制，通过镀不同的金属体现不同的颜色，还以做五颜六色的彩镀，举例如下银色，可镀铬，铝，镍等来实现金色，可镀金，钛的氮化物与金合金，黑色与枪色，镀钛与碳的化合物局部电镀方便，真空镀可以利用夹具来遮挡不需要电镀的区域。
真空镀能做到不导电，等称NCVM。