金融界2024年2月29日消息，据国家知识产权局公告，天津膜天膜科技股份有限公司取得一项名为“补漏剂及用于修补分离膜的方法“，授权公告号CN115245747B，申请日期为2021年4月。
专利摘要显示，本发明属于膜修复领域，具体涉及一种补漏剂及用于修补分离膜的方法，补漏剂包括下述质量份组分：高聚物10‑30份，溶剂10‑30份，惰性载体剂40‑80份；所述的高聚物为待修复的分离膜主体材料；所述的惰性载体剂为不能单独溶解分离膜且与分离膜/溶剂体系共混的有机溶剂；所述的溶剂为能够溶解所述的高聚物的溶剂。
本发明的补漏剂制备简易，耐存储，使用方便。
能快速填补漏洞，恢复破损区孔径，延续膜使用寿命。
对正常功能区孔径过滤截留性能无影响，膜组件性能影响小。
操作方便，可集成化使用。
本文源自金融界