金融界2024年7月19日消息，天眼查知识产权信息显示，拉普拉斯新能源科技股份有限公司申请一项名为“腔室清洗装置及方法和沉积设备“，公开号CN202410257768.0，申请日期为2024年3月。
专利摘要显示，本公开提供了一种腔室清洗装置及方法和沉积设备，具体涉及沉积镀膜技术领域。
该腔室清洗装置应用于沉积设备，沉积设备包括腔室，腔室清洗装置包括：等离子体产生结构，被配置为利用腔室内的清洗气体产生第一等离子体，第一等离子体用于对腔室进行清洗；导电结构，设置于腔室的外壁；偏压电源，与导电结构电连接，被配置为为导电结构加载负向偏压，以使腔室内产生负偏压电场，其中负偏压电场用于加速第一等离子体的运动，使得第一等离子体能够与腔室内残留的硅粉或沉积的硅层的反应更均匀和彻底，实现了提高腔室清洗效果的目的。
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